DEPOSITION OF FLUORINE-DOPED SILICA LAYERS FROM A SICL4-SIF4-O2 GAS-MIXTURE BY PLASMA-CVD METHOD

被引：18

作者：

KUPPERS, D

KOENINGS, J

WILSON, H

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2131666

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1298 / 1302

页数：5

共 9 条

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