FORMATION OF ALUMINUM SILICIDE BETWEEN 2 LAYERS OF AMORPHOUS-SILICON

被引：44

作者：

HENTZELL, HTG

ROBERTSSON, A

HULTMAN, L

SHAOFANG, G

HORNSTROM, SE

PSARAS, PA

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.97984

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：933 / 934

页数：2

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共 5 条

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