NEW QUENCHING RATES APPLICABLE TO KRF LASER

被引:45
作者
EDEN, JG
WAYNANT, RW
SEARLES, SK
BURNHAM, R
机构
关键词
D O I
10.1063/1.89903
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:733 / 735
页数:3
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