DOMAIN CONFIGURATION UNDER ROTATIONAL FLUX AND APPLIED STRESS CONDITIONS IN SILICON-IRON

被引：6

作者：

PHILLIPS, R ^{[1
]}

OVERSHOT.KJ ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV WALES,INST SCI & TECHNOL,WOLFSON CTR TECHNOL SOFT MAT,CARDIFF,WALES

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/TMAG.1974.1058302

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：168 / 169

页数：2

共 4 条

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