INCREASED RESISTANCE TO PHOTODEGRADATION OF RHODAMINE 6G IN COOLED SOLID MATRICES

被引：27

作者：

FORK, RL

KAPLAN, Z

机构：

来源：

APPLIED PHYSICS LETTERS | 1972年 / 20卷 / 12期

关键词：

D O I：

10.1063/1.1654021

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：472 / &

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