MIX AND MATCH LITHOGRAPHY FOR 0.1 MU-M MOSFET FABRICATION

被引：10

作者：

MIEVILLE, JP

BARRIER, J

SHI, Z

DUTOIT, M

OPPLIGER, Y

MORET, JM

PERRET, A

机构：

[1] Institute for Micro-, Optoelectronics Swiss Federal Institute of Technology

[2] Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0167-9317(91)90074-N

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

[No abstract available]

引用

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