DEVELOPMENT OF SURFACE STRESSES DURING THE OXIDATION OF SEVERAL SI3N4-CEO2 MATERIALS

被引：14

作者：

LANGE, FF

DAVIS, BI

机构：

[1] Rockwell International Science Center, Thousand Oaks, California

来源：

关键词：

D O I：

10.1111/j.1151-2916.1979.tb12749.x

中图分类号：

TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

[No abstract available]

引用

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