50-KV PULSE-GENERATOR FOR PLASMA SOURCE ION-IMPLANTATION

被引：12

作者：

BOHM, G ^{[1
]}

GUNZEL, R ^{[1
]}

机构：

[1] ROSSENDORF INC,RES CTR,D-01214 DRESDEN,GERMANY

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1994年 / 12卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.587352

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

The pulse generator has been especially designed by Puls-Plasmatechnik GmbH for the application of the field of plasma source ion implantation. The maximum output voltage is -50 kV. The pulse frequency can be adjusted up to 100 Hz. A brief survey is given in this article.

引用

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