EFFECT OF ARGON ION-BOMBARDMENT ON INTERNAL-STRESS IN EVAPORATED CO-CR FILM

被引：9

作者：

AWANO, H ^{[1
]}

SATO, T ^{[1
]}

机构：

[1] SONY CORP,INFORMAT SYST RES CTR,HODOGAYA KU,YOKOHAMA,KANAGAWA 240,JAPAN

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS | 1988年 / 27卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.27.L880

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L880 / L882

页数：3