THE DEPENDENCE OF DEPOSITION RATE ON POWER INPUT FOR DC AND RF MAGNETRON SPUTTERING

被引：27

作者：

NYAIESH, AR

HOLLAND, L

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/S0042-207X(81)80503-9

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：315 / 317

页数：3

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共 4 条

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