ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHIC PATTERN GENERATION SYSTEM

被引：6

作者：

PATLACH, AM ^{[1
]}

JASKAR, PR ^{[1
]}

STUDWELL, TW ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1978年 / 15卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569618

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页数：4