X-RAYS PRODUCED DURING ION-IMPLANTATION

被引：2

作者：

LURIO, A ^{[1
]}

ZIEGLER, JF ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.89717

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：482 / 484

页数：3

共 7 条

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