HIGH-RATE SPUTTERING OF ALUMINUM FOR METALLIZATION OF INTEGRATED-CIRCUITS

被引：52

作者：

MCLEOD, PS ^{[1
]}

HARTSOUGH, LD ^{[1
]}

机构：

[1] AIRCO TEMESCAL,BERKELEY,CA 94712

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1977年 / 14卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569136

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：263 / 265

页数：3