A THERMALLY ASSISTED FIELD-EMISSION ELECTRON-BEAM EXPOSURE SYSTEM

被引：11

作者：

NAKAZAWA, H ^{[1
]}

TAKEMURA, H ^{[1
]}

ISOBE, M ^{[1
]}

NAKAGAWA, Y ^{[1
]}

SHEARER, MH ^{[1
]}

THOMPSON, W ^{[1
]}

机构：

[1] JEOL USA INC,PEABODY,MA 01960

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1988年 / 6卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.584121

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：2019 / 2022

页数：4