EFFECT OF VARYING OXIDIZING AND NITRIDING PARAMETERS ON SURFACE OF CR THIN-FILMS

被引:21
作者
ALESSAND.EI
BRUSIC, V
机构
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1972年 / 9卷 / 01期
关键词
D O I
10.1116/1.1316693
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:83 / &
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