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CONTACT RESISTANCE IN DIFFUSED RESISTORS
被引:29
作者
:
CHANG, IF
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
CHANG, IF
机构
:
来源
:
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY
|
1970年
/ 117卷
/ 03期
关键词
:
D O I
:
10.1149/1.2407513
中图分类号
:
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
:
081704 ;
摘要
:
引用
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页码:368 / &
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[11]
ELECTROLESS NICKEL PLATING FOR MAKING OHMIC CONTACTS TO SILICON
[J].
SULLIVAN, MV
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SULLIVAN, MV
;
EIGLER, JH
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EIGLER, JH
.
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY,
1957,
104
(04)
:226
-230
[12]
TING CC, PRIVATE COMMUNICATIO
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共 12 条
[11]
ELECTROLESS NICKEL PLATING FOR MAKING OHMIC CONTACTS TO SILICON
[J].
SULLIVAN, MV
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SULLIVAN, MV
;
EIGLER, JH
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EIGLER, JH
.
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY,
1957,
104
(04)
:226
-230
[12]
TING CC, PRIVATE COMMUNICATIO
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