HIGH-RESOLUTION THICK MASK PATTERN FABRICATION FOR X-RAY-LITHOGRAPHY

被引：5

作者：

ONO, T

OZAWA, A

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1980年 / 19卷 / 11期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.19.2311

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：2311 / 2312

页数：2

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