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GERMANIUM-DOPED GALLIUM ARSENIDE TUNNEL DIODES
被引:12
作者
:
SOLOMON, R
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SOLOMON, R
NEWMAN, R
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NEWMAN, R
KYLE, NR
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KYLE, NR
机构
:
来源
:
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY
|
1961年
/ 108卷
/ 07期
关键词
:
D O I
:
10.1149/1.2428198
中图分类号
:
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
:
081704 ;
摘要
:
引用
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页码:716 / 716
页数:1
相关论文
共 4 条
[1]
FOLBERTH OG, 1957, Z NATURFORSCH PT A, V12, P943
[2]
KOHN C, 1957, PHYS REV, V108, P965
[3]
INFLUENCE OF ARSENIC PRESSURE ON THE DOPING OF GALLIUM ARSENIDE WITH GERMANIUM
MCCALDIN, JO
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MCCALDIN, JO
HARADA, R
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HARADA, R
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1960,
31
(11)
: 2065
-
2066
[4]
WHELAN JM, 1960, PROPERTIES ELEMENTAL, P141
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共 4 条
[1]
FOLBERTH OG, 1957, Z NATURFORSCH PT A, V12, P943
[2]
KOHN C, 1957, PHYS REV, V108, P965
[3]
INFLUENCE OF ARSENIC PRESSURE ON THE DOPING OF GALLIUM ARSENIDE WITH GERMANIUM
MCCALDIN, JO
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-
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