FOCUSING EFFECTS IN SPUTTER DEPOSITION

被引:4
作者
CHAPMAN, BN
机构
关键词
D O I
10.1016/0040-6090(71)90087-3
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:R41 / &
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共 3 条
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