FLYS-EYE LENS TECHNIQUE FOR GENERATING SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION MASKS

被引：6

作者：

RUDGE, WE

HARDING, WE

MUTTER, WE

机构：

来源：

IBM JOURNAL OF RESEARCH AND DEVELOPMENT | 1963年 / 7卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1147/rd.72.0146

中图分类号：

TP3 [计算技术、计算机技术];

学科分类号：

0812 ;

摘要：

引用

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页码：146 / 150

页数：5

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共 2 条

[1]

HELMERS TC, 1961, SEMICONDUCTOR PRODUC, V4, P37

[2]

MURRAY JJ, 1962, SEMICOND PROD, V5, P30