SILICON DIOXIDE THIN-FILMS PREPARED BY THERMAL-DECOMPOSITION OF SILICON TETRAACETATE

被引:4
作者
MARUYAMA, T
ABURAI, K
机构
来源
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | 1988年 / 27卷 / 12期
关键词
D O I
10.1143/JJAP.27.L2268
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:L2268 / L2270
页数:3
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