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LOW-TEMPERATURE ELECTROSTATIC SILICON-TO-SILICON SEALS USING SPUTTERED BOROSILICATE GLASS
被引:40
作者
:
BROOKS, AD
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0
BROOKS, AD
HARDESTY, CA
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HARDESTY, CA
DONOVAN, RP
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DONOVAN, RP
机构
:
来源
:
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY
|
1972年
/ 119卷
/ 04期
关键词
:
D O I
:
10.1149/1.2404250
中图分类号
:
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
:
081704 ;
摘要
:
引用
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页码:545 / &
相关论文
共 3 条
[1]
Pomerantz DI., 1968, Patent No. [US3397278 A, 3397278, US3397278A]
[2]
FIELD ASSISTED GLASS-METAL SEALING
WALLIS, G
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机构:
P. R. Mallory and Co. Inc., Burlington
WALLIS, G
POMERANT.DI
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机构:
P. R. Mallory and Co. Inc., Burlington
POMERANT.DI
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1969,
40
(10)
: 3946
-
&
[3]
WALLIS G, 1970, OCT EL SOC M ATL CIT
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共 3 条
[1]
Pomerantz DI., 1968, Patent No. [US3397278 A, 3397278, US3397278A]
[2]
FIELD ASSISTED GLASS-METAL SEALING
WALLIS, G
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机构:
P. R. Mallory and Co. Inc., Burlington
WALLIS, G
POMERANT.DI
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机构:
P. R. Mallory and Co. Inc., Burlington
POMERANT.DI
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1969,
40
(10)
: 3946
-
&
[3]
WALLIS G, 1970, OCT EL SOC M ATL CIT
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