EFFECTS OF OXIDE ISOLATION ON PROPAGATION DELAY IN INTEGRATED INJECTION LOGIC (I2L)

被引：3

作者：

IIZUKA, T ^{[1
]}

机构：

[1] TOKYO SHIBAURA ELECT CO LTD,TOSHIBA RES & DEV CTR,KAWASAKI,KANAGAWA 210,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/JSSC.1977.1050953

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：547 / 552

页数：6

共 12 条

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