ELECTRICAL RESISTIVITY OF THIN NICKEL FILMS

被引：9

作者：

HIRSCHHORN, JS

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0022-3697(62)90222-6

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

引用

页码：1821 / &

共 18 条

[1]

BASSETT GA, 1959, STRUCTURE PROPERTIES

[2] HALL EFFECT AND FERROMAGNETISM OF VERY THIN NICKEL FILMS [J].

COREN, R ;

JURETSCHKE, HJ .

CRITTENDEN, EC ;

HOFFMAN, RW .

JOURNAL DE PHYSIQUE ET LE RADIUM, 1956, 17 (03) :179-183

CRITTENDEN, EC ;

HOFFMAN, RW .

JOURNAL DE PHYSIQUE ET LE RADIUM, 1956, 17 (03) :220-223

[5]

CRITTENDEN EC, 1959, STRUCTURE PROPERTIES

[6]

DANTONIO C, TO BE PUBLISHED

Fuchs, K .

PROCEEDINGS OF THE CAMBRIDGE PHILOSOPHICAL SOCIETY, 1938, 34 :100-108

[8] AGGREGATE STRUCTURE IN THIN NICKEL FILMS [J].

HIRSCHHORN, JS ;

MACIAG, RJ .

[9]

HIRSCHHORN JS, 1962, THESIS BROOKLYN POLY

[10]

MAYER H, 1959, STRUCTURE PROPERTIES