PROSPECTS FOR HIGH-BRIGHTNESS X-RAY SOURCES FOR LITHOGRAPHY

被引：14

作者：

ECONOMOU, NP

FLANDERS, DC

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 19卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.571225

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：868 / 871

页数：4

共 26 条

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