SCHOTTKY-BARRIER HEIGHT OF IRIDIUM SILICIDE

被引：36

作者：

OHDOMARI, I ^{[1
]}

TU, KN ^{[1
]}

DHEURLE, FM ^{[1
]}

KUAN, TS ^{[1
]}

PETERSSON, S ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598

来源：

APPLIED PHYSICS LETTERS | 1978年 / 33卷 / 12期

关键词：

D O I：

10.1063/1.90256

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：1028 / 1030

页数：3

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共 7 条

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