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LARGE BARRIER TUNNEL METAL-INSULATOR - SEMICONDUCTOR STRUCTURES
被引：3
作者：
HANSELAER, PL
VANMEIRHAEGHE, RL
LAFLERE, WH
CARDON, F
机构：
[1] Rijksuniversiteit Gent, Ghent, Belg, Rijksuniversiteit Gent, Ghent, Belg
关键词：
D O I：
10.1088/0268-1242/2/2/005
中图分类号：
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ;
0809 ;
摘要：
52
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页数：8
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