RATE AND PRESSURE-DEPENDENCE OF CONTAMINANTS IN VACUUM-DEPOSITED ALUMINUM FILMS

被引：17

作者：

SPRINGER, RW

CATLETT, DS

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1978年 / 15卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569481

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：210 / 214

页数：5

共 14 条

[1]

ANDERSON RJ, 1925, METALLURGY ALUMINUM

[2]

DAVID LE, HDB AUGER ELECTRON S

[3] PURITY AND MORPHOLOGY OF ALUMINUM FILMS [J].

DHERE, NG ;

ARSENIO, TP ;

PATNAIK, BK .

[4] MONOLAYER ADSORPTION OF OXYGEN ON ALUMINIUM [J].

DOREY, G .

FUGGLE, JC ;

WATSON, LM ;

FABIAN, DJ ;

AFFROSSMAN, S .

[6]

Hansen M., 1958, J ELECTROCHEM SOC, DOI DOI 10.1149/1.2428700

[7]

HONIG AE, 1974, ADV MASS SPECTROMETR, V6

[8]

KREUGER WH, 1972, SURF SCI, V30, P263

[9]

KREUGER WH, 1972, SURF SCI, V30, P280

[10]

Maissel L.I., 1970, HDB THIN FILM TECHNO