SECONDARY EMISSION BEAM MONITORS FOR 0.5 TO 3.5 MEV ELECTRONS

被引:18
作者
VANHUYSE, VJ
WATTECAMPS, ED
VANDEVIJVER, RE
VANPRAET, GJ
机构
来源
NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS | 1962年 / 15卷 / 01期
关键词
D O I
10.1016/0029-554X(62)90027-7
中图分类号
TH7 [仪器、仪表];
学科分类号
0804 ; 080401 ; 081102 ;
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共 2 条
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