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AN EXTENSION OF EFFECTS OF FILM NONLINEARITIES IN HOLOGRAPHY

被引：11
作者：
KNIGHT, GR
机构：
[1] Electronic Defense Laboratories, Sylvania Electronic Systems, Mountain View, CA, 94042
来源：
APPLIED OPTICS | 1968年 / 7卷 / 01期
关键词：
D O I：
10.1364/AO.7.000205
中图分类号：
O43 [光学];
学科分类号：
070207 ; 0803 ;
摘要：
[No abstract available]
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页码：205 / &
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