PHOTO-ASSISTED ANISOTROPIC ETCHING OF PHOSPHORUS-DOPED POLYCRYSTALLINE SILICON EMPLOYING REACTIVE SPECIES GENERATED BY A MICROWAVE-DISCHARGE

被引：23

作者：

HAYASAKA, N

OKANO, H

SEKINE, M

HORIIKE, Y

机构：

来源：

APPLIED PHYSICS LETTERS | 1986年 / 48卷 / 17期

关键词：

D O I：

10.1063/1.96458

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

收藏

页码：1165 / 1166

页数：2

相关论文

共 4 条

[1]

HORIIKE Y, 1982, C MICROCIRCUIT ENG G, P203

[2]

KAWASAKI M, COMMUNICATION

[3] INFRARED DETECTION OF TRICHLORIDE RADICAL CL3 [J].

NELSON, LY ;

PIMENTEL, GC .

JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS, 1967, 47 (09) :3671-&

[4]

SEKINE M, 1984, 6TH P S DRY P IEE TO, P74