IN-SITU SPUTTER CLEANING OF THIN-FILM METAL SUBSTRATES FOR UHV-TEM CORROSION STUDIES

被引：11

作者：

HEINEMANN, K ^{[1
]}

POPPA, H ^{[1
]}

机构：

[1] NASA, AMES RES CTR, MOFFETT FIELD, CA 94035 USA

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1973年 / 10卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.1317948

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：22 / 25

页数：4

共 6 条

[1] BERTING FM, 1970, THESIS U VIRGINIA
[2] SELECTED-ZONE DARK-FIELD ELECTRON-MICROSCOPY
HEINEMANN, K
POPPA, H
[J]. APPLIED PHYSICS LETTERS, 1972, 20 (03) : 122 - +
[3] LAWLESS KR, 1965, MEM ETUD SCI REV MET, V62, P27
[4] LAWLESS KR, 1969, N0001469A00600002 NR
[5] MOORHEAD RD, 1969, 27 P ANN EMSA M ST P
[6] EXPERIMENTAL APPROACHES TO WELL CONTROLLED STUDIES OF THIN-FILM NUCLEATION AND GROWTH
POPPA, H
HEINEMANN, K
MOORHEAD, RD
[J]. NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS, 1972, 102 (03): : 521 - +