DOUBLE POSITIVE BEVELING - BETTER EDGE CONTOUR FOR HIGH-VOLTAGE DEVICES

被引：14

作者：

CORNU, J

SCHWEITZER, S

KUHN, O

机构：

[1] BROWN BOVERI RES CTR, BADEN, SWITZERLAND

[2] BROWN BOVERI SEMICONDUCTOR DEVEL, BIRR, SWITZERLAND

来源：

IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES | 1974年 / ED21卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1109/T-ED.1974.17893

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

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页码：181 / 184

页数：4

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共 4 条

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