MASK DEPENDENT ETCH RATES .3. THE EFFECT OF A SILVER ETCH MASK ON THE PLASMA ETCH RATE OF SILICON

被引：13

作者：

FEDYNYSHYN, TH

GRYNKEWICH, GW

DUMAS, RH

机构：

[1] Olin Research Cent, Cheshire, CT,, USA, Olin Research Cent, Cheshire, CT, USA

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2095578

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：268 / 269

页数：2