CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：16

作者：

ARCHER, NJ

机构：

[1] Fulmer Research Institute, Stoges Poges, Slough

来源：

PHYSICS IN TECHNOLOGY | 1979年 / 10卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1088/0305-4624/10/4/I03

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

Various aspects are covered including the basic CVD process, the range of materials produced, the chemistry of CVD, properties of CVD deposits, comparison with other coating techniques, applications and future developments.

引用

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