INTERFACE REACTION OF SIO2 AND GAAS DURING HIGH-TEMPERATURE HEAT-TREATMENTS

被引：3

作者：

MIZUTANI, S

MORI, M

ONO, T

MIYAZAWA, T

OHDOMARI, I

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.19.1107

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1107 / 1110

页数：4

共 7 条

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