BACKSCATTERING STUDY ON LATERAL SPREAD OF IMPLANTED IONS

被引：65

作者：

FURUKAWA, S ^{[1
]}

MATSUMURA, H ^{[1
]}

机构：

[1] TOKYO INST TECHNOL, DEPT PHYS & ELECT, MEGURO, TOKYO, JAPAN

来源：

APPLIED PHYSICS LETTERS | 1973年 / 22卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1063/1.1654577

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：97 / 98

页数：2

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