DEPOSITION OF ALN AT LOWER TEMPERATURES BY ATMOSPHERIC METALORGANIC CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION USING DIMETHYLETHYLAMINE ALANE AND AMMONIA

被引：26

作者：

KIDDER, JN

KUO, JS

LUDVIKSSON, A

PEARSALL, TP

ROGERS, JW

GRANT, JM

ALLEN, LR

HSU, ST

机构：

[1] UNIV WASHINGTON,DEPT CHEM ENGN,SEATTLE,WA 98195

[2] SHARP MICROELECTR TECHNOL INC,CAMAS,WA 98607

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1995年 / 13卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.579812

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

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