DISTRIBUTION OF MATERIAL SPUTTERED FROM A DISK ELECTRODE

被引：26

作者：

SCHWARTZ, GC

JONES, RE

MAISSEL, LI

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1969年 / 6卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.1492692

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：351 / &

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[3] von Hippel A, 1926, ANN PHYS-BERLIN, V81, P1043
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WEHNER, GK
[J]. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1954, 25 (02) : 270 - 271