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A NEW REVERSE BASE CURRENT (RBC) OF THE BIPOLAR-TRANSISTOR INDUCED BY IMPACT IONIZATION
被引:4
作者
:
SAKUI, K
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SAKUI, K
HASEGAWA, T
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HASEGAWA, T
FUSE, T
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FUSE, T
SESHITA, T
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SESHITA, T
ARITOME, S
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ARITOME, S
WATANABE, S
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WATANABE, S
OHUCHI, K
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OHUCHI, K
MASUOKA, F
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MASUOKA, F
机构
:
来源
:
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS
|
1989年
/ 28卷
/ 12期
关键词
:
D O I
:
10.1143/JJAP.28.L2150
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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页码:L2150 / L2152
页数:3
相关论文
共 4 条
[1]
BIPOLAR-TRANSISTOR MODELING OF AVALANCHE GENERATION FOR COMPUTER CIRCUIT SIMULATION
DUTTON, RW
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机构:
BELL TEL LABS INC, HOLMDEL, NJ USA
BELL TEL LABS INC, HOLMDEL, NJ USA
DUTTON, RW
[J].
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES,
1975,
ED22
(06)
: 334
-
338
[2]
PHILLIPS AB, 1962, TRANSISTOR ENG, P210
[3]
INFLUENCE OF BASE SPREADING RESISTANCE AND CHARGE CARRIER MULTIPLICATION ON INITIAL FAMILY OF CHARACTERISTICS OF PLANAR TRANSISTORS
REIN, HM
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REIN, HM
SCHAD, T
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SCHAD, T
ZUHLKE, R
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ZUHLKE, R
[J].
SOLID-STATE ELECTRONICS,
1972,
15
(05)
: 481
-
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[4]
REISCH M, 1986, 1986 IEDM LOS ANG, P654
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[1]
BIPOLAR-TRANSISTOR MODELING OF AVALANCHE GENERATION FOR COMPUTER CIRCUIT SIMULATION
DUTTON, RW
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机构:
BELL TEL LABS INC, HOLMDEL, NJ USA
BELL TEL LABS INC, HOLMDEL, NJ USA
DUTTON, RW
[J].
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES,
1975,
ED22
(06)
: 334
-
338
[2]
PHILLIPS AB, 1962, TRANSISTOR ENG, P210
[3]
INFLUENCE OF BASE SPREADING RESISTANCE AND CHARGE CARRIER MULTIPLICATION ON INITIAL FAMILY OF CHARACTERISTICS OF PLANAR TRANSISTORS
REIN, HM
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REIN, HM
SCHAD, T
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SCHAD, T
ZUHLKE, R
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ZUHLKE, R
[J].
SOLID-STATE ELECTRONICS,
1972,
15
(05)
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REISCH M, 1986, 1986 IEDM LOS ANG, P654
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