CHARGING AND CHARGE NEUTRALIZATION IN ION-IMPLANTATION

被引：13

作者：

MACK, ME

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0168-583X(89)90227-9

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

引用

页码：472 / 477

页数：6

共 17 条

[1]

BASRA VK, 1987, ION IMPLANTATION TEC, P360

[2]

BENEVENISTE V, 1989, NUCL INSTRUM METH B, V37, P568

[3]

Brown S. C., 1959, BASIC DATA PLASMA PH

[4]

CARTER G, 1968, ION BOMBARDMENT SOLI, pCH3

[5] ION-BEAM INDUCED WAFER CHARGING [J].

DOHERTY, BJ ;

MCCARRON, DJ .

[6]

FELSH SB, 1989, NUCL INSTRUM METH B, V37, P563

[7]

HALL JM, 1987, ION IMPLANTATION TEC, P350

[8] BEAM TRANSPORT [J].

HOLMES, AJT .

RADIATION EFFECTS AND DEFECTS IN SOLIDS, 1979, 44 (1-4) :47-58

HOLMES, D ;

HOLMES, M ;

STEINBACH, L ;

HAUSNER, T ;

ROCHELEAU, B .

[10]

MACK ME, 1985, ION IMPLANTATION EQU, P9