RF PLASMA DEPOSITION OF AMORPHOUS-SILICON FILMS FROM SICL4-H2

被引:39
作者
BRUNO, G
CAPEZZUTO, P
CRAMAROSSA, F
DAGOSTINO, R
机构
关键词
D O I
10.1016/0040-6090(80)90293-X
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
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页数:5
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