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FABRICATION OF SIO2 BLAZED HOLOGRAPHIC GRATINGS BY REACTIVE ION-ETCHING
被引：25
作者：
MATSUI, S
YAMATO, T
ARITOME, H
NAMBA, S
机构：
关键词：
D O I：
10.1143/JJAP.19.L126
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
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页码：L126 / L128
页数：3
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