DISPLACEMENT THRESHOLDS IN SEMICONDUCTORS

被引：38

作者：

LOFERSKI, JJ

RAPPAPORT, P

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.1735308

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1296 / 1299

页数：4

共 22 条

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