CRITICAL RESISTIVITY OF ANTIFERROMAGNETIC SEMICONDUCTORS

被引:8
作者
BALBERG, I
ALEXANDER, S
HELMAN, JS
机构
[1] HEBREW UNIV, RACAH INST PHYS, JERUSALEM, ISRAEL
[2] INST POLITECNICO NAC, CTR INVEST, DEPT FIS, MEXICO CITY 14, MEXICO
关键词
D O I
10.1103/PhysRevLett.33.836
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
引用
收藏
页码:836 / 839
页数:4
相关论文
共 20 条