MICROWAVE PLASMA CVD SYSTEM FOR THE FABRICATION OF THIN SOLID FILMS

被引：18

作者：

KATO, I ^{[1
]}

WAKANA, S ^{[1
]}

HARA, S ^{[1
]}

KEZUKA, H ^{[1
]}

机构：

[1] HOSEI UNIV,COLL ENGN,TOKYO 184,JAPAN

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS | 1982年 / 21卷 / 08期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.21.L470

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

收藏

页码：L470 / L472

页数：3

相关论文

共 3 条

[1] GENERATION OF LARGE VOLUME MICROWAVE PLASMAS
BOSISIO, RG
WERTHEIMER, MR
WEISSFLOCH, CF
[J]. JOURNAL OF PHYSICS E-SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 1973, 6 (07): : 628 - 630
[2] MICROWAVE DISCHARGE CAVITIES OPERATING AT 2450 MHZ
FEHSENFELD, FC
EVENSON, KM
BROIDA, HP
[J]. REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 1965, 36 (03) : 294 - +
[3] RADIAL-DISTRIBUTION OF EXCITED ATOMS IN A NEW COAXIAL LINE TYPE MICROWAVE CW DISCHARGE-TUBE
KATO, I
TSUCHIDA, H
NAGAI, M
[J]. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1980, 51 (10) : 5312 - 5315