CHARACTERIZATION OF LPCVD OF SILICON-NITRIDE IN A RAPID THERMAL PROCESSOR

被引：9

作者：

JOHNSON, FS

MILLER, RM

OZTURK, MC

WORTMAN, JJ

机构：

来源：

RAPID THERMAL ANNEALING / CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND INTEGRATED PROCESSING | 1989年 / 146卷

关键词：

D O I：

10.1557/PROC-146-345

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：345 / 350

页数：6