PULSED ELECTRON-BEAM ANNEALING ION-IMPLANTED MATERIALS - EQUIPMENT AND RESULTS

被引：2

作者：

LITTLE, RG

GREENWALD, AC

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/TNS.1981.4331513

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：1751 / 1753

页数：3

共 6 条

[1] PULSED-ELECTRON-BEAM ANNEALING OF ION-IMPLANTATION DAMAGE [J].

GREENWALD, AC ;

KIRKPATRICK, AR ;

LITTLE, RG ;

MINNUCCI, JA .

HIRVONEN, JK ;

POATE, JM ;

GREENWALD, A ;

LITTLE, R .

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