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DAMAGE GROWTH IN SI DURING SELF-ION IRRADIATION - A STUDY OF ION EFFECTS OVER AN EXTENDED ENERGY-RANGE
被引：6
作者：
HOLLAND, OW
ELGHOR, MK
WHITE, CW
机构：
来源：
ION BEAM PROCESSING OF ADVANCED ELECTRONIC MATERIALS
|
1989年
/
147卷
关键词：
D O I：
10.1557/PROC-147-169
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
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页码：169 / 178
页数：10
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