QUANTITATIVE-ANALYSIS BY SUB-MICRON SECONDARY ION MASS-SPECTROMETRY

被引：51

作者：

SATOH, H

OWARI, M

NIHEI, Y

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1988年 / 6卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.584322

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：915 / 918

页数：4

共 4 条

[1]

BESKE HE, 1973, C QUANTITATIVE ANAL, P249

LEVISETTI, R ;

WANG, YL ;

CROW, G .

NIHEI, Y ;

SATOH, H ;

TATSUZAWA, S ;

OWARI, M ;

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KAMMEI, Y .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS, 1987, 5 (04) :1254-1257

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